儀器名稱：全自動離子濺射儀 型號：ETD-800
原理：二極直流濺射
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儀器名稱：離子濺射儀 型號：ETD-900M
原理：磁控濺射
在磁控濺射中，由于運(yùn)動電子在磁場中受到洛侖茲力，它們的運(yùn)動軌跡會發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)
生螺旋運(yùn)動，其運(yùn)動路徑變長，因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù)，使等離子體密度增 加，從而磁控濺射速率得到很大的提高，而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作。同時，經(jīng)過多次碰撞而喪失能 量的電子到達(dá)陽極時，已變成低能電子，從而不會使基片過熱。
ETD-800參數(shù)：
主機(jī)規(guī)格：260mm×307mm×260mm（W×D×H）
電源規(guī)格：220V/50HZ
靶（上部電極）：50mm×0.1mm（D×H）
靶材：Au
真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 115mm×100mm（D×H）
定時器： zui 長時間：3600S
機(jī)械泵： 1L/S
zui 高電壓：-1200 DCV
ETD-900M參數(shù)：
主機(jī)規(guī)格：300mm×360mm×380mm（W×D×H）
靶（上部電極）：50mm×0.1mm（D×H）
靶材：Au（標(biāo)配）
樣品室：硼硅酸鹽玻璃 160mm×120mm（D×H）
靶材尺寸：Ф 50mm
真空指示表： zui 高真空度：≤ 4X10-2 mbar
離子電流表： zui 大電流：50mA
定時器：zui 長時間：0-360S ?
微型真空氣閥：可連接φ 3mm 軟管
可通入氣體： 多種
zui 高電壓： -1600 DCV ?
機(jī)械泵：標(biāo)準(zhǔn)配置 2L/S（國產(chǎn) VRD-8）
特點與用途：
ETD-800用途：
適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備。
特點：
可以通過更換不同的靶材（金、鉑、銀等），以達(dá)到細(xì)顆粒的涂層。
一鍵式操作，使用方便。
ETD-900M用途：
適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備，非導(dǎo)體材料實驗電極制作。
特點：
1、簡單、經(jīng)濟(jì)、可靠、外觀精美。
2、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強(qiáng)以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。
3、SETPLASMA 手動啟動按鈕可預(yù)先設(shè)置好壓強(qiáng)和濺射電流避免對膜造成不必要的 損 傷。
4、真空保護(hù)可避免真空過低造成設(shè)備短路。
5、同時可以通過更換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達(dá)到更細(xì)顆粒的涂層。
6、通過通入不同的惰性氣體以達(dá)到更純凈的涂層。
